銅燒結(jié)互連技術(shù)在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用
隨著新能源汽車、5G通信、工業(yè)電源等領(lǐng)域?qū)Ω咝阅芄β势骷男枨蠹ぴ?,以碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)為代表的第三代半導(dǎo)體成為行業(yè)核心驅(qū)動力。然而,傳統(tǒng)封裝技術(shù)在高功率密度、高溫環(huán)境下的可靠性瓶頸日益凸顯,銅燒結(jié)互連技術(shù)憑借其成本優(yōu)勢、高可靠性和工藝兼容性,正成為新一代半導(dǎo)體封裝的關(guān)鍵解決方案。
銅燒結(jié)技術(shù)的背景與優(yōu)勢
1. 第三代半導(dǎo)體的封裝挑戰(zhàn)
第三代半導(dǎo)體器件(如SiC MOSFET)的工作溫度可超過250°C,甚至達(dá)到320°C的極端工況,而傳統(tǒng)錫基焊料的熔點不足250°C,且易因高溫蠕變失效。此外,銀燒結(jié)技術(shù)雖能耐受高溫,但其高成本和電遷移問題限制了大規(guī)模應(yīng)用,且燒結(jié)銀能夠適配的界面結(jié)構(gòu)種類有限,往往要求在基板表面做銀、金鍍層處理,過度復(fù)雜的界面連接結(jié)構(gòu)和表面處理工藝不光會造成成本的上漲,更會帶來潛在的界面破壞風(fēng)險,從而對器件的長期可靠性形成威脅。
材料 | 熱導(dǎo)率 | 結(jié)合可靠性(功率循環(huán)) | CTE | 價格 | 應(yīng)用成熟度 | 燒結(jié)設(shè)備 | 環(huán)保 |
燒結(jié)銅 | 200-300 | 很高 | 17 | 一般 | 一般 | 熱壓 | √ |
燒結(jié)銀 | 200-300 | 高 | 19 | 高 | 一般 | 熱壓 | √ |
高鉛釬料 | 20-30 | 差 | 24 | 低 | 高 | 氮氣爐 | × |
2. 銅燒結(jié)的核心優(yōu)勢
銅燒結(jié)技術(shù)通過納米銅顆粒的低溫?zé)Y(jié)(180-300°C)實現(xiàn)“低溫互連、高溫服役”,具有以下優(yōu)勢:
v成本效益:銅材料成本不到銀的1/50,尤其適用于大面積互連場景;
v性能匹配:銅的熱導(dǎo)率(401 W/m·K)和電導(dǎo)率(5.96×10? S/m)與銀接近,且熱膨脹系數(shù)(17 ppm/K)更接近SiC芯片(4 ppm/K)和陶瓷基板(7 ppm/K),減少熱應(yīng)力;
v可靠性提升:研究表明,銅燒結(jié)模塊的功率循環(huán)壽命比銀燒結(jié)高30%(如下圖),且孔隙率可控制在15%以下,界面穩(wěn)定性更優(yōu)。
關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域與產(chǎn)業(yè)化進(jìn)展
1. 新能源汽車電驅(qū)系統(tǒng)
在800V高壓平臺和SiC逆變器的推動下,銅燒結(jié)技術(shù)成為車規(guī)級功率模塊的首選方案。例如:
基本半導(dǎo)體:其銅燒結(jié)碳化硅模塊在熱沖擊測試中壽命超過銀燒結(jié)模塊30%,功率循環(huán)可靠性顯著提升,已進(jìn)入產(chǎn)業(yè)化準(zhǔn)備階段;
采埃孚:采用銅燒結(jié)的CIPB(Chip Inlay Power Board)技術(shù),功率密度超過120 kW/L,雜散電感降低65%,適配高密度車載逆變器設(shè)計。
2. 工業(yè)電源與高頻器件
銅燒結(jié)技術(shù)的高導(dǎo)熱性(200-300 W/m·K)和低電阻率(<15μΩ·cm)可有效保證散熱降低結(jié)溫、降低功率損耗,適用于工業(yè)電源等高壓大電流場景和數(shù)據(jù)中心電源、光伏逆變器等高頻場景。
3. 射頻與光電子器件
納米銅膏的無壓燒結(jié)技術(shù)(孔隙率可控)在射頻器件和小尺寸芯片封裝中展現(xiàn)出潛力,例如GaN射頻模塊的銅夾(Clip)互連,可減少寄生電感并提升散熱效率。
技術(shù)挑戰(zhàn)與解決方案
1、氧化問題
納米銅顆粒易氧化,影響燒結(jié)質(zhì)量,一方面整體配方相對銀燒結(jié)要引入防氧化組分,另一方面可能要在還原性氣氛中進(jìn)行燒結(jié)抑制氧化。
2、工藝條件
銅原子本身擴(kuò)散系數(shù)低,燒結(jié)難度更高,需要的燒結(jié)驅(qū)動力更大,燒結(jié)溫度和燒結(jié)時間要求目前整體略高于銀燒結(jié)。
3、設(shè)備與工藝兼容性
現(xiàn)有銀燒結(jié)設(shè)備需通過升級氣氛控制系統(tǒng)兼容銅燒結(jié)工藝,降低產(chǎn)線改造成本。
結(jié)語
銅燒結(jié)互連技術(shù)正逐步取代銀燒結(jié),成為高性能半導(dǎo)體封裝的主流方案。其在成本、可靠性和工藝兼容性上的綜合優(yōu)勢,將加速第三代半導(dǎo)體在新能源汽車、工業(yè)電源等領(lǐng)域的普及。隨著材料科學(xué)和工藝設(shè)備的持續(xù)突破,銅燒結(jié)技術(shù)有望在未來幾年內(nèi)實現(xiàn)全面產(chǎn)業(yè)化,推動半導(dǎo)體封裝技術(shù)邁入新紀(jì)元。
參考資料:基本半導(dǎo)體銅燒結(jié)技術(shù)在碳化硅功率模塊中的應(yīng)用,https://www.eepw.com.cn/article/202407/461128.htm